분말 처리를 위해 로타리 튜브 용광로Harper는 무기 화학물질, 촉매, 형광체 및 분말형 금속을 포함하여 분말 및 입자상 재료를 위한 열 처리 솔루션 부문에서 전세계로부터 신뢰를 받고 있습니다. 이러한 재료를 위한 배치 및 연속 전기로 반응 시스템은 최대 3000°C 온도의 통제되거나 특수한 대기 환경에서 재료를 처리하는 데 중점을 두고 있으며, 초미세 및/또는 마이크론이나 나노 크기의 물질도 수용할 수 있습니다.

Harper는 알루미나, 탄소/그래파이트, 규소, 티탄산염, 텅스텐, 코발트, 철, 아연, 석영, 몰리브덴, 지르코니아 등을 생산하는 다양한 애플리케이션을 위한 맞춤형 배치 또는 연속 열 처리 시스템을 설계하는 데 있어 방대한 경험을 축적하고 있습니다. Harper는 최대 3000°C 온도까지 통제되거나 특수한 대기 환경 조건에서의 공정 처리에 초점을 맞춰 이러한 재료를 위한 혁신적인 전기로를 제공하고 있습니다. Harper의 전문 기술은 소성, 흑연화, 침탄, 산화 제어, 환원, 정화, 열분해, 건조, 금속화, 탈지, 폐기물 처리 등의 기능을 제공하는 기체-고체 또는 고체-고체 반응기를 아우릅니다.

각각의 재료가 독특한 특성을 가지고 있듯이 처리 시스템 또한 마찬가지입니다. Harper는 고객의 요구 사항을 충족하기 위해 억지로 표준 제품 라인을 짜맞추지 않으며, 가능한 한 가장 효율적이고 효과적인 구조를 고려하는 한편 축적한 경험과 노하우를 활용하여 분말 생산 공정에서 각 고객의 독자적인 요구 사항에 맞춘 업계 최초의 솔루션을 제공하고 있습니다. Harper는 일관되고 균일한 재료 처리에 필요한 고온, 순도, 대기, 재료 흐름 및 체류 시간의 정밀 제어에 주력하고 있습니다.

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